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PVD鍍膜機原理

2018-03-09  來自: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數:1407

  PVD鍍膜機原理

  PVD真空鍍膜機是目前制作真空條件應用最為廣泛的真空設備,一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成,排氣系統采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。

  一、真空主體——真空腔根據加工產品要求的各異,真空腔的大小也不一樣,目前應用最多的有直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等,腔體由不銹鋼" target=_blank>不銹鋼材料制作,要求不生銹、堅實等,真空腔各部分有連接閥,用來連接各抽氣泵浦。

  二、輔助抽氣系統:排氣系統為鍍膜機真空系統的重要部分,主要有由機械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴散泵三大部分組成。此排氣系統采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。排氣流程為:機械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空狀態,為擴散泵后繼抽真空提供前提,之后當擴散泵抽真空腔的時候,機械泵又配合油擴散泵組成串聯,以這樣的方式完成抽氣動作。

關鍵詞: PVD鍍膜機           

肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司主要產品有:手機鍍膜機,光學鍍膜機,塑料鍍鋁機,PVD鍍膜機,光學鏡片鍍膜機,鈦金爐,多弧鍍膜機,pvd真空電鍍,離子鍍膜機,鍍鈦機,陶瓷鍍膜機,濺射鍍膜機,卷繞鍍膜機,真空鍍膜機,鍍膜機,離子鍍,真空電鍍機,真空鍍膜設備等系列。


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